Tetrafluormethan (CF<sub>4</sub>)

Tetrafluormethan (CF4)

Tetrafluormethan (CF4), auch Kohlenstofftetrafluorid genannt, ist ein farbloses, ungiftiges, nicht brennbares Gas, das normalerweise komprimiert und unter hohem Druck transportiert wird. CF4 ist das wichtigste Plasmaätzmittel in der Halbleiterindustrie und wird häufig zum Ätzen von Polysilizium, Siliziumdioxid, Siliziumnitrit, einigen Metallen und Metallsiliziden verwendet. Außerdem ist CF4 als Kältemittel für niedrige Temperaturen, als Reinigungsgas für Wafer und Kammern und als gasförmiges Isoliermittel sehr nützlich.

Basierend auf der fortschrittlichen Elektrolyse- und Fluoridproduktionstechnologie sowie der kontinuierlichen Forschung und Entwicklung seit mehreren Jahren verfügt LRICI über eine CF4-Produktionseinheit mit 100 Tonnen pro Jahr und unabhängigen geistigen Eigentumsrechten, die die Produktion von 5N und 5,8N CF4 kontinuierlich und stabil gewährleisten kann.

Spezifikation für 8N&5N CF4

Item Index
CF4, 10-2 ≥ 99.9998 ≥ 99.999
N2, 10-6 ≤ 1 ≤ 4
O2, 10-6 ≤ 0.5 ≤ 1
H2O, 10-6 ≤ 0.5 ≤ 1
CO, 10-6 ≤ 0.1 ≤ 0.1
CO2, 10-6 ≤ 0.4 ≤ 1
SF6, 10-6 ≤ 0.1 ≤ 1
F-C, 10-6 ≤ 0.5 ≤ 1
HF, 10-6 ≤ 0.1 ≤ 1

Hinweis: Bei allen Angaben handelt es sich um Massenanteile.

Verpackung:

Zylindertyp Nenndurchmesser (OD) × Höhe(cm) Zylindergewicht (kg) Internes Volumen (L) Zylinderdruck (MPa) Inhalt(kg) Ventil
DOT 3AA2265 23×130/23×138.5 52/55 43.3/46.7 14 26/28 CGA580
CGA320

* Die Höhe wird als Abstand vom Boden des Zylinders zum Flaschenhals angegeben.

* Alternativ können je nach Kundenwunsch auch andere Zylinder- und Ventiltypen geliefert werden.

Anwendung:

Tetrafluormethan in elektronischer Qualität: Es ist derzeit eines der wichtigsten Plasmaätzgase in der Halbleiterindustrie und wird hauptsächlich zum Ätzen von Silizium, Siliziumdioxid, Siliziumnitrid, Metallsilizid und einigen Metallen verwendet. Es wird häufig in der Tieftemperaturkühlung, der Oberflächenreinigung elektronischer Geräte und der Gasphasenisolierung usw.

Fabrik:

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