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Tetrafluormetano (CF<sub>4</sub>)

Tetrafluormetano (CF4)

Tetrafluormetano (CF4) também chamado Carbon Tetrafluorideis é um gás incolor, não tóxico e não inflamável, normalmente comprimido e enviado a alta pressão. O CF4 é o principal agente de corrosão de plasma na indústria de semicondutores, amplamente utilizado para corrosão de polissilício, dióxido de silício, nitrito de silício, alguns metais e silicídios metálicos. Além disso, o CF4 é muito útil como refrigerante de baixa temperatura, como gás de limpeza para wafers e câmaras e como isolante gasoso.

Com base na tecnologia avançada de produção de eletrólise e flúor e P&D contínuo por vários anos, a LRICI possui uma unidade de produção de CF4 de 100t/a com direitos de propriedade intelectual independentes que podem atender à produção de CF4 de 5N e 5,8N de forma contínua e estável.

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Especificação para 8N&5N CF4

Item Index
CF4, 10-2 ≥ 99.9998 ≥ 99.999
N2, 10-6 ≤ 1 ≤ 4
O2, 10-6 ≤ 0.5 ≤ 1
H2O, 10-6 ≤ 0.5 ≤ 1
CO, 10-6 ≤ 0.1 ≤ 0.1
CO2, 10-6 ≤ 0.4 ≤ 1
SF6, 10-6 ≤ 0.1 ≤ 1
F-C, 10-6 ≤ 0.5 ≤ 1
HF, 10-6 ≤ 0.1 ≤ 1

Nota: todas as especificações são frações de massa.

Embalagem:

Tipo de Cilindro Diâmetro Nominal(OD) × Altura(cm) Peso do Cilindro (kg) Volume Interno (L) Pressão do Cilindro (MPa) Conteúdo (kg) Válvula
DOT 3AA2265 23×130/23×138.5 52/55 43.3/46.7 14 26/28 CGA580
CGA320

* A altura é informada como a distância da parte inferior do cilindro até o pescoço do cilindro;

* Ou atender os demais tipos de cilindros e válvulas de acordo com a demanda do cliente.

Aplicação:

Tetrafluoreto de grau eletrônico: Atualmente é um dos principais gases de gravação de plasma na indústria de semicondutores, usado principalmente para gravação de silício, dióxido de silício, nitreto de silício, silicieto de metal e alguns metais. É amplamente utilizado em refrigeração de baixa temperatura, limpeza de superfície de dispositivos eletrônicos e isolamento de fase gasosa, etc.

Fábrica:

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